检测认证人脉交流通讯录
- 功能
快速去除晶圆上之残留光阻，达到晶圆表面洁净，蚀刻率同业最高
特点
‧处理均匀性佳
‧离子能量低、不损伤基板
‧没有电极及基板的污染
‧专利设计之特殊等离子电极
‧高密度等离子源
ˇ等离子效率高、清洁效率高
ˇ可控制低的离子能量
ˇ结合化学反应性及物理撞击性
‧处理速度快、清洁效率高、可靠度高
‧操作范围广
‧可使用多种制程气体
‧全自动且容易操作
‧设备稳定高，容易维护
‧可依客户需求作更改
应用产业
‧残余光阻去除
‧蓝膜残胶去除
‧PSS 来料清洁制程
馗鼎奈米科技股份有限公司
梁雅娟
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