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ETD-2000C 离子溅射/蒸碳一体机

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    • ETD-2000C型在ETD-2000型基础上,增加了蒸碳附件。适用于分析型扫描电镜对于不同分析需要的导电膜层制备。 配置参数如下: 仪器尺寸 : 400mm×300mm×400mm(L×W×H) 真空样品室: 硼硅酸盐玻璃 160mm×110mm(D×H) 靶(上部电极): 50mm×0.1mm(D×H) 样品台: 50mm(D) ,自动旋转。 操作真空: 4×10-1mbar至2×10-2mbar 微型真空气阀: 可连接φ3mm软管 可通入气体: 多种 工作电压: 0-1600V (DC)可调 溅射电流: 0-50mA 溅射定时: 1-9999S 蒸碳电流 0-10A(AC) 真空泵: 4L/S两级机械旋转泵(极限真空2×10-2mbar) 样品表面离子清洁(选配)

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