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ETD-2000Ⅲ/3000Ⅲ 三靶小型离子溅射镀膜机

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    • ETD-2000Ⅲ/3000Ⅲ 离子溅射仪:依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的,最简单、可靠、经济的镀膜设备。他相对于ETD-2000/3000的特别之处是在一个真空室内设计安装了三个靶。旋转样品台,可以依次在同一样品上涂覆三种材料。适用于实验室的各种复合膜样品制备,及非导体材料实验电极制作。 配置参数如下: 靶(上部电极):直径:45mm,厚度:0.12mm 真空样品室: 直径:160mm,高:120mm 样品台高度调节:手动调节 溅射面积: Ф45mm,三区域 真空指示表: 最高真空度:≤ 4X10-2 mbar 离子电流表: 最大电流:50mA(100mA) 定时器: 最长时间:900S 微型真空气阀: 可连接φ3mm软管 可通入气体: 多种 最高电压: -1600(-3000)DCV 机械泵: 2L/S 样品表面离子清洁(选配) 意力博通还提供以下服务: 维修或改造所有类型任何品牌的扫描电子显微镜(SEM)、数字图像和Si(Li)探测器。提供国产化能谱仪及改造X射线能谱仪等。
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