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SVS-V2000 溅射台
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SVS-V2000 溅射台(北京，上海，深圳，成都，西安均有分公司提供服务) 主要功能： 用于半导体工业生产和实验室样品制备时，电介质膜和其他半导体膜的蒸镀工艺。 主要特点: 1 腔体尺寸：600mm-1200mm（或客户化定制）； 2 可单片或多片同时进行； 3 样品台可以行星/旋转/直线等方式运动； 4 镀膜速率等参考可控，可对样品在蒸镀过程中进行实时监测； 5 通过反应气体来产生氧化物和氮化物等； 6 全自动的系统。
北京锐峰先科技术有限公司
冯先生
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