检测认证人脉交流通讯录
- 本装置由本公司与浙江大学共同研制。 镀膜原理为真空溅射离子、电子飞速运动，放电离子飞速轰击机台靶面，溅击大量（银、铜等）介质，原子逐步沉积到基片衬底表面成膜。 实验内容： ●不同金属材料薄膜制备； ●利用空阴极放电制备了CU和Ag涂层研究空阴极对薄膜结构； ●在光学材料上薄膜的制备及特性的测量的影响； ●研究离子轰击对膜性质的影响。 技术参数： ●真空系统：旋片式真空泵，单相220V； ●工作气压：10~200Pa； ●工作电压：0~1500V可调，工作电流0~200mA可测量； ●基台加热控温系统室温200度； ●溅射镀膜钟罩直径140mm，高度150mm； ●基台可升降，可调范围：10~50mm； ●仪器配有镀膜片，另配显微镜、清洗机。
