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武汉高盛光电科技有限公司

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太阳能电池激光刻膜机

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    • 应用领域 非晶硅膜系太阳能电池的透明导电膜(SnO2、AZO、ITO)非晶硅膜(a-Si 、μc-Si)、背电极膜(ZnO、AL)等的激光刻膜(刻线、切割)其它薄膜电池的膜层刻膜(金属钼Mo薄膜、金属镍Ni 薄膜、碲化CdTe薄膜) 产品特点 l 半导休端面泵浦光纤耦合激光器;四光路同步输出 l 高速气浮工作台:膜面朝上运行;自动进出料自动上下料 l 自动识别跟踪定位;自动湿度补偿 l 直线电机驱动;静态显示(动态观察) 技术指标 型号规格 GSF-P1 GSF-P2 GSF-P3 激光波长 1064nm 532nm 532nm 有效加工幅画 1.1×1.4m (635×1245mm) 最大运行速度 2000mm/s 平均刻膜速度 800-1500mm/s 重复定位精度 ± 10μm 运动直线度 ± 10μm/1000mm 最小刻膜线宽 30-60μm
    武汉高盛光电科技有限公司

    薛经理

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