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药物粉末包覆

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    • THEIA 是一款高性能,稳定,灵活,可靠且安全的研发型原子层沉积系统,兼具工业生产解决方案的优势。THEIA 可进行升级改造,从而满足科学研究的各种需求,并实现从“研发”到“生产”的无缝衔接。 产品规格【药物粉末包覆】 1. SMFD-ALDTM 超快沉积:12-30 nm/min 2. 低维护周期:平均每 50 μm 沉积后维护一次 3. 阀门:可实现<1ms 开关控制,寿命可达 1 亿次循环,在 220℃ 下长期稳定工作 4. 薄膜不均匀度<1% 5. 可容纳 3 片 75-300mm 基片,300×300×10mm 的腔室 产品特点 THEIA 解决了困扰 ALD 工艺多年以来的问题:效率与维护。ALD 虽然拥有较好的膜厚控制与均一性,但因为效率不高,市场容量仍然低于 CVD。Forge Nano 拥有 SMFD-ALDTM 超快沉积技术,可实现快 12-30nm/min 的沉积效率,将 ALD 沉积效率提升到新的高度。同时实现前驱体高利用率以及低维护成本,与 CVD 相比,THEIA 的集成减排设计可以实现污染物“零排放”,避免了环境污染问题,节约大量成本,为 ALD 工艺提供了新的参考标准。 药物粉末包覆https://www.zyzhan.com/st81793/product_3394077.html http://www.desktop-sem.com/SonList-497373.html

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