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真空镀膜技术是指在真空环境下，将某种金属或金属化合物以气相的形式沉积到材料表面（通常是非金属），属于物理 气相沉积工艺，因为镀层常为铝、锡、铟等金属的薄膜，故也称为真空金属化。
真空镀膜的功能主要是赋予被镀件表面具有高度的金属光泽和镜面效果，尤其在车灯罩方面有很重要的聚光效果，其次是赋予镀膜层出色的阻隔性能，提供优异的电磁屏蔽和导电效果。
真空镀膜根据镀膜气相金属产生的方式和沉积方式的不同，分为热蒸发镀膜法和磁控溅射镀膜法两种工艺。其中，磁控溅射法由于镀膜层和基材的结合力强，镀膜层致密、均匀等优点，更具有技术优势。
真空镀膜材料以金属和金属氧化物为主。金属型镀膜材料有铝、锡、铟、钴、镍、铜、锌、银、金、钛、铬、钼、钨等；合金型镀膜材料有镍-铬、镍-铁、铁-钴、金-银-金等；金属化合物有二氧化硅、二氧化钛、二氧化锡等。其中，尤以铝应用最多最普遍。这主要因为铝蒸发温度低、易操作、铝镀层对塑料附着力好、对紫外线和气体阻隔性强、价格低廉。