检测认证人脉交流通讯录
LASERTEC 光掩模缺陷检测系统 MATRICS X700系列
- 主要规格：
- hp45nmノード以降の最先端フォトマスクの欠陥検査・品質管理に最適な装置 位相シフトマスク（EPSM、APSM）及びOPC（Optical Proximity Correction＝光近接効果補正）マスクに対応 光源に自社開発の213nm全固体レーザーを搭載し、高感度欠陥検出を達成 OHT自動搬送との接続等フレキシブルなインターフェイスが可能（オプション）
- 用 途：
- 「フォトマスク欠陥検査装置 MATRICS X700シリーズ」は、レーザー・光関連産業の発展に大きく貢献したことが評価され、一般社団法人レーザー学会より、レーザー学会産業賞「奨励賞」を受賞いたしました。
- 特長
hp45nmノード以降の最先端フォトマスクの欠陥検査・品質管理に最適な装置
位相シフトマスク（EPSM、APSM）及びOPC（Optical Proximity Correction＝光近接効果補正）マスクに対応
光源に自社開発の213nm全固体レーザーを搭載し、高感度欠陥検出を達成
OHT自動搬送との接続等フレキシブルなインターフェイスが可能（オプション）
「フォトマスク欠陥検査装置 MATRICS X700シリーズ」は、レーザー・光関連産業の発展に大きく貢献したことが評価され、一般社団法人レーザー学会より、レーザー学会産業賞「奨励賞」を受賞いたしました。
用途
ウェハファブにおけるフォトマスクの受入検査および定期検査、ヘイズ検査
マスクショップにおける出荷前検査（ペリクル貼り付け後も検査可能）
仕様
検査方式 マルチダイモード（アレイモード含む）、 シングルダイモード 及びこれらの複合検査
検査光 3モード（透過光、反射光、透過/反射同時照明光）
検出感度 最高感度25nm ※検出感度は欠陥タイプ・検査方式により異なります
検査時間 105分 / 100mm²（ノーマルスキャン）
60分 / 100mm²（ファーストスキャン）
マスクサイズ 6025
深圳京都玉崎株式会社
- 地址：
- 江苏苏州市高新区竹园路7号中梁香缇商务广场2栋1201室
