检测认证人脉交流通讯录
LASERTEC MATRICS X810EX系列 掩模缺陷检测仪
- 主要规格：
- 高感度、高速、低CoOを実現した、デザインノード20nm～7nｍ以降に対応できる半導体マスク検査システム
- 用 途：
- ウェハファブにおけるフォトマスク、およびEUVマスクの受入検査、および定期的な品質確認検査 フォトマスク、EUVマスクの製造工程における出荷前検査
- 特長
高感度、高速、低CoOを実現した、デザインノード20nm～7nｍ以降に対応できる半導体マスク検査システム
従来比2倍のハイパワー213nmQCWレーザー(>400mW)を搭載し、さらなる高感度化を達成
欠陥検出システムの高速化により、スキャン時間を28％削減（70分 ->50分 / 100mm x 100mmエリア）
マスクのパターン寸法分布(CD uniformity)をマスク検査と同時に計測し、可視化する機能を搭載
フォトマスク用のRSP150、RSP200、およびEUVマスク用のDual Podに対応可能
OHT（Overhead Hoist Transport)と連動した全自動検査が可能
ステージ系と電気ラック系を一体化した設計により、コンパクトなフットプリントを達成
用途
ウェハファブにおけるフォトマスク、およびEUVマスクの受入検査、および定期的な品質確認検査
フォトマスク、EUVマスクの製造工程における出荷前検査
仕様
検査方式 マルチダイモード、シングルダイモード
検査スキャン時間 50分/100mmx100mmエリア
対応マスク Cr、MoSi、OMOG、EUV
マスクサイズ 6インチ
深圳京都玉崎株式会社
- 地址：
- 江苏苏州市高新区竹园路7号中梁香缇商务广场2栋1201室
