检测认证人脉交流通讯录
LASERTEC 掩模缺陷检测仪 MATRICS X8ULTRA系列
- 主要规格：
- デザインノード7nm～5nmのEUVマスクおよびフォトマスクに対応できる半導体マスク検査システム ピクセルサイズ45nm、ハイパワー213nmQCWレーザー（>400mW）、および2種類の偏光照明により、高感度化を達成
- 用 途：
- ウェハファブにおけるEUVマスクおよびフォトマスクの受入検査、定期的な品質確認検査 EUVマスクおよびフォトマスクの製造工程における出荷前検査
- 特長
デザインノード7nm～5nmのEUVマスクおよびフォトマスクに対応できる半導体マスク検査システム
ピクセルサイズ45nm、ハイパワー213nmQCWレーザー（>400mW）、および2種類の偏光照明により、高感度化を達成
初期状態のマスクパターンの全画像を保存し、ウェハ露光後のマスクパターンと比較して、マスク上の異物を検出するマスクtoマスク比較検査機能（MtM機能）を搭載
マスクのパターン寸法分布（CD uniformity）をマスク検査と同時に計測し、可視化する機能を搭載
EUVマスク用のDual Pod、フォトマスク用のRSP150、RSP200に対応可能
OHT（Overhead Hoist Transport）と連動した全自動検査が可能
ステージ系と電気ラック系を一体化した設計により、コンパクトなフットプリントを達成
用途
ウェハファブにおけるEUVマスクおよびフォトマスクの受入検査、定期的な品質確認検査
EUVマスクおよびフォトマスクの製造工程における出荷前検査
仕様
検査方式 マルチダイモード、シングルダイモード、MtMモード
検査スキャン時間 50分/100mmx100mmエリア
対応マスク EUV用マルチレイヤー、Cr、MoSi、OMOG
マスクサイズ 6インチ
深圳京都玉崎株式会社
- 地址：
- 江苏苏州市高新区竹园路7号中梁香缇商务广场2栋1201室
