检测认证人脉交流通讯录
- 激光刻膜机技术参数: 型号规格 SEF-G5 有效加工幅面 1.1m×1.4m（或635mm×1245mm ） 最大运行速度 2000mm/s 重复定位精度 ±10μm 刻线直线度 ±10μm / 1000 mm 典型刻膜线宽 30～60μm 三线外沿总宽度 300～500μm 激光刻膜机选项和配件： 高标配，可根据需要移除不需要的部件。 激光刻膜机应用和市场： 非晶硅薄膜太阳电池的透明导电膜（SnO2、AZO、ITO）、非晶硅膜系（a-Si、μc-Si）、背电极膜（ZnO、Al）等的激光刻膜（刻线、切割），其它薄膜电池的膜层刻膜（金属钼Mo薄膜、金属镍Ni薄膜、碲化镉CdTe薄膜）
