技术参数

1激发电源：

 电源电压：50Hz、220V±1%

 输入功率：1.0KVA

2光学系统：

 分析波段范围：175-450nm

 凹面光栅：

 曲率半径  750mm

 刻划密度：2400线/mm

 刻划面积：30X50mm2

 闪耀波长（一级）300nm

 线色散：0.55nm/mm

 入射狭缝宽度：20um

 出射狭缝宽度：50um、75um

 允许最多通道：36个

 分光仪局部恒温：30℃±0.1℃

3测控系统：

 测量方式：分段积分

 重现性：RSD≤0.2%

 光电倍增管高压电源：

 电压：-1000V

 稳定性：8小时优于0.5%

 光电倍增管高压调节：

 计算机控制，操作便捷。

仪器特点

*扩展了分析领域，可用于多种基体分析：黑色金属：Fe、Co、Ni、Ti，有色金属Cu、Al、Pb、Mg、Zn、Sn。

*采用高重复性、高稳定性的激光电源，激发频率可在150-600HZ之间变化，可根据用户所分析材质选用。

*采用高集化得采集和控制系统，自动化程度高。

*分析速度快、抗干扰能力强、重复性好、稳定性好。

*仪器结构设计新颖合理，外型美观，外观比例协调，更加小型化，集成化。

*激发室采用最新滑轨式拉门，操作者得心应手。

*采用Windows系统下的中文操作软件，方便简捷。

*建有数据库，可通用网络远程传输数据，方便快捷。

*可以建立质量管理软件程序，方便质量管理与监控。

*抗震性能强，不需做防震基础。

*采用局部恒温，既保证了仪器的正常运行，又降低了对环境的要求。

*使用维护简单方便，维护成本低。