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全反射X射线荧光光谱仪

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    • X射线由Mo靶或W靶产生,在Ni/C人工多层膜上反射并单色化。扁平的光束以非常小的角度(0.3 – 0.6 °)掠射装有样品的样品架,并产生全反射。样品所产生的特征荧光被能量色散探测器(XFlash® detector) 探测,强度通过偶合的多通道分析器测量。  与常规的XRF最大的不同,全反射荧光(TXRF)是使用了单色光和全反射光学部件。以全反射光束照射样品,降低了吸收、以及样品及衬底材料对光的散射。结果是大大降低了背景噪音,因此有高的多的灵敏度和明显地降低了基体效应。  全反射荧光(TXRF)的最主要优点是,相对于其他原子波谱分析法,如AAS 或 ICP-OES,无记忆效应。  全反射荧光分析法,样品必须制备在能全反射X射线的样品架上。因此,样品架的直径30mm,材料通常是丙烯酸或石英玻璃。 
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