如今光学真空镀膜（https://www.linshangtech.cn/tech/tech48.html）应用的行业广泛，镀膜产品涉及日常生活中各种物品，其中给光学薄膜和玻璃镀膜的厚度均匀性有较高的要求，由于薄膜的厚度非常薄，对真空镀膜工艺有很高的要求；目前市场上有专业的光密度检测仪，可以连续监控真空镀膜的薄膜厚度品质。通过对镀膜层的光学性能透光率来检测镀膜的均匀性。

　　林上光学真空镀膜仪器参数：

　　技术参数：LS152测厚仪

　　测试波长：850nm红外线,530nm绿光可选

　　测量光斑：5mm圆形

　　透过率测量精度：优于±1%（无色均匀透光物质）

　　透过率分辨率：0.005%

　　光密度测量范围：0.00 OD - 5.00 OD

　　光密度分辨率：0.01 OD for 0.00-3.00 OD

　　0.05 OD for 3.00-5.00 OD

　　最大测量点数：45点

　　相邻探头之间距离：最小35mm

　　光源探头和接收探头之间距离:20mm

　　工作温度:-10℃ ～ 60℃

　　存储温度:-20℃ ～ 70℃

　　相对湿度:小于85％，不结露

　　数据刷新周期:普通模式300ms/快速模式100ms

　　通讯接口:双路RS485

　　通讯协议:支持标准MODBUS协议

　　仪器尺寸:长(根据客户要求定制)×宽(80mm)×高(180mm)

　　需真空法兰电极芯数:6根(不配电脑监控)

　　9根(配电脑监控)

　　电源:220V AC/50Hz

　　光学真空镀膜设备可用于检测塑料，塑料的真空镀层与光固化有机涂层的复合，一般采用真空镀铝与光固化有机涂层的复合，但在防护等性能上受到很大的限制。真空镀铬是今后的发展方向之一。真空镀铬层具有比铝镀层更美丽的银白金属光泽，在大气中有很强的钝化性能，在碱、硝酸、硫化物、碳酸盐、有机酸等腐蚀介质中稳定，还有较高的硬度，良好的耐磨性和耐热性。

　　光学真空镀膜在传感器中，多采用那些电气性质相对于物理量、化学量及其变化来说，极为敏感的半导体材料。此外，其中大多数利用的是半导体的表面、界面的性质，需要尽量增大其面积，且能工业化、低价格制作、因此采用薄膜的情况很多。