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低应力氮化硅薄膜窗口

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    • 1.产品简介 SHNTI的氮化硅薄膜窗口是一款价格非常优惠的产品,应用也非常广泛。它可以应用在TEM、X-Ray、SEM等等分析测试上。 在TEM上,可以完全避免碳膜的背景影响;在X-Ray上能够实现软X-射线(如真空紫外线)的最大透射率。特别在“离轴”状态工作(即薄膜与光束成一定角度)时,也需要较薄的薄膜窗口,便于X射线的更好穿透。 现有技术一般采用计量式或ST氮化硅薄膜,但ST薄膜具有较高的残余应力,不够结实,容易破裂。SHNTI提供的氮化硅薄膜窗口是一种低应力的承载工具(也可以作为微型培养皿、支撑膜),改进了原有技术的缺陷。SHNTI提供的氮化硅薄膜窗口具有良好的透光性、平整性、耐高温、化学惰性、亲水性、实用性、稳定性等。 2.产品规格 标准氮化硅薄膜规格(基底厚度525um或200um): Standard silicon nitride film window specifications (substrate thickness of 525um or 200um) 1、外框5mm×5mm,窗口大小1.5mm×1.5mm,膜厚50/100/150/200nm Frame 5mm×5mm,window size 1.5mm×1.5mm,thickness 50/100/150/200nm 2、外框7.5mm×7.5mm,窗口大小3mm×3mm,膜厚50/100/150/200nm Frame7.5mm×7.5mm,window size 3mm×3mm,thickness 50/100/150/200nm 3、外框3mm直径,窗口大小0.1mm×0.1mm×9,膜厚20/50/100nm Frame diameter 3mm,window size 0.1mm×0.1mm×9,thickness 20/50/100nm 4、外框3mm直径,窗口大小1mm×1mm,膜厚20/50/100/150nm Frame diameter 3mm,window size1mm×1mm,thickness 20/50/100nm 5、外框3mm直径,窗口大小0.1mm×1.5mm×2,膜厚20/50/100nm Frame diameter 3mm,window size0.1mm×1.5mm×2,thickness20/50/100nm 非标准氮化硅薄膜窗口接受客户要求定制,但是订购量多,价格会降低。(一般建议100片以上订购,平均单价会比较低。)

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