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- 型号： RIE 2000反应离子刻蚀机
产地： 美国 反应离子刻蚀机
关键机：反应离子刻蚀系统，反应离子蚀刻机，RIE刻蚀机，反应离子蚀刻系统，进口反应离子蚀刻机
品牌：MYCRO
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RIE 2000 反应离子刻蚀机是专门为微电子器件的各向异性刻蚀设计的。这款紧凑型的研究级设备可以用于工艺开发和小批量生产，从而可以模拟大型生产设备的操作。
RIE 2000是一套分子涡轮真空泵系统，可以达到底限压力10-6 torr。这样的低基准压力使得刻蚀前腔体内的残留物被消除，从而提供了一个洁净的蚀刻环境，使高度的异向性刻蚀成为可能。其200毫米直径的真空仓可以容纳最大6英寸直径及相应尺寸不规则基片的蚀刻。RIE 2000配套的全手动控制系统及数字显示读取，使设备可以进行更广泛的蚀刻实验参数设定，并不受限于常规自动化的处理范围。
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技术规格:
真空泵: 70 1/sec 涡轮分子泵
气体输入: 双通道，全不锈钢构造，配备整体式气体喷头。
系统排气/泄压装置:独立式连锁电磁阀，配有干燥氮气连接。
射频电源: User variable 0-200 watt; 13.56 MHz frequency,
手动调节;风冷; 固态设计.
工艺时间控制: 蚀刻自动终止，最长时间为99:99:59
输入电源: 115/230 VA, 50/60 Hz, 10/5 amps.
系统尺寸: 20.25" W x 16" D x 15" H
真空处理舱尺寸: quartz, 8" OD x 4" high.
选配件:不锈钢舱,观测窗;质量流量控制系统,最多配四路气体通道;冷阴极真空计
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