主要包括：X射线能谱分析（EDS）、聚焦离子束分析（FIB）、俄歇电子能谱分析（AES）、X射线光电子能谱分析（XPS）、动态二次离子质谱分析（D-SIMS）、飞行时间二次离子质谱分析（TOF-SIMS）

简要介绍：

表面分析技术利用电子、光子、离子、原子、强电场、热能等与固体表面的相互作用，测量从表面散射或发射的电子、光子、离子、原子、分子的能谱、光谱、质谱、空间分布或衍射图像，得到表面成分、表面结构、表面电子态及表面物理化学过程等信息的各种技术，统称为表面分析技术。

表面组分分析包括表面元素组成、化学态及其在表层的分布测定等。后者涉及元素在表面的横向和纵向(深度)分布。

表面分析特点：

表面是固体的终端，表面向外一侧没有近邻原子，表面原子有部分化学键伸向空间，形成“悬空键”。因此表面具有与体相不同的较活跃的化学性质。

表面指物体与真空或气体的界面。

表面分析通常研究的是固体表面。表面有时指表面的单原子层，有时指上面的几个原子，有时指厚度达微米级的表面层。

应用领域:

航空、汽车、材料、电子、化学、生物、地质学、医学、冶金、机械加工、半导体制造、陶瓷品等。