技术指标:极限真空度: 主溅射室6.6×10-5Pa,进样室5×10-4Pa;工作真空度可调靶:磁控靶/射频靶,水冷,射频靶2×φ50,直流靶1×φ50 衬底: 多片样品,可水冷,可加热结构: 主溅射室φ350×280,夹壁水冷
仪器用途:金属、非金属材料薄膜制备
收费标准:30元/时
机组负责人:傅明喜 1395899379
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