技术指标:真空室:直径600mm,高800mm 沉积温度:室温-300℃ 气氛:10-4~10-5Pa
仪器用途:制备各种涂层和成型器件,制备任何金属和非金属及其化合物、微电子和光电子材料和薄膜的制作及各种特殊性能的晶态和非晶态材料,半导体化合物薄膜等。
收费标准:面议
机组负责人:李长生 13775320265
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