检测认证人脉交流通讯录
- 仪器名称：溅射刻蚀台
- 价格型号：JR-2B
- 仪器分类：刻蚀设备
- 应用领域：
- 所属单位：南通大学理学院
- 所在地点：
- 产 地：
- 产 商：北京创威纳科技
- 价 值：0
- 购置日期：0000-00-00
技术指标：刻蚀室规格：Φ300×110mm；电极尺寸：Φ200mm；刻蚀速率：0.1~1μ/min；刻蚀不均匀性：≤±5%。 溅射室规格：Φ400×180 mm； 溅射靶规格：Φ80mm；溅射靶数量：两靶上置（射频磁控、直流磁控）；溅射不均匀性： ≤±5%；载片量：2英寸12片或3英寸8片,散片若干。
仪器用途：科研教学
收费标准：协商
机组负责人：李雅丽 0513-85015890
