技术指标:溅射真空室尺寸:480*280 ,极限真空:6.6*10-4Pa,磁控靶靶材尺寸:4*60,样品台加热温度:800度,电源配置及总功率:50Hz,380v,220v,10kw.
仪器用途:纳米级的单层及多层功能膜--各种硬质膜,金属膜,半导体膜,介质膜,铁磁膜和磁性薄膜等的研究开发.
收费标准:200元/样品
机组负责人:陈建康 84895871
请点击查看电话