检测认证人脉交流通讯录
- 仪器名称：等离子体增强化学气相沉积机
- 价格型号：Plasmalab System100
- 仪器分类：其它
- 应用领域：
- 所属单位：中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
- 所在地点：
- 产 地：
- 产 商：oxford
- 价 值：0
- 购置日期：0000-00-00
技术指标：SiH4流量0-50sccm，N20流量0-2000sccm，NH3流量0-500sccm，温度范围80-350度，RF功率范围0-300W
仪器用途：主要用于SiO2、SiNx、a-Si等介质膜的生长，一次可放置两寸片5片，四寸片和六寸片1片，薄膜不均匀性≤±3%。 预约友情提示：低温工艺，请预约每天早上的第一炉工艺；掺杂（包括PH3、GeH4、B2H6、H2）、a-Si每天下午15:00以后可以预约。此类工艺请至少提前一天预约，以便设备做好相应准备。
收费标准：400/30分钟
机组负责人：张嫔 0512-62872625 pzhang2008@sinano.ac.cn
