检测认证人脉交流通讯录
- 仪器名称：高真空磁控镀膜设备
- 价格型号：定制
- 仪器分类：其它
- 应用领域：
- 所属单位：中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
- 所在地点：
- 产 地：
- 产 商：定制
- 价 值：0
- 购置日期：0000-00-00
技术指标：溅射速率0.1A/s-10A/s，溅射功率0-200W，溅射厚度：普通金属（Ni、Al、Ti、Ag、Cr、Cu）5nm-2000nm，贵重金属（Pt、Au）5nm-500nm；气体（Ar、O2、N2），流量范围0-100sccm。背底真空：5E-4Pa温度：20-400℃
仪器用途：主要用于溅射Ti、Al、Ni、Au、Ag、Cr、Pt、Cu、等金属薄膜，各种氧化物薄膜，一次可溅射两寸片4片，向下尺寸兼容，薄膜不均匀性≤±10%" 2小时起约。
收费标准：面议
机组负责人：张嫔 0512-62872625 pzhang2008@sinano.ac.cn
